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반도체 가공 장치를 진단하는 진단 시스템 및 그것의 제어 방법

Diagnostic system for diagnosing semiconductor processing equipment and control method thereof

반도체 가공 장치를 진단하는 진단 시스템 및 그것의 제어 방법 대표도면
대표도면
분류
특허 (국내)
출원번호 · 출원일
10-2020-0174162 · 2020.12.14
등록번호 · 등록일
10-2268290 · 2021.06.17
국제특허분류 (IPC)
H01L-021/67
청구항 수
9항
권리 상태
등록

요약

본 발명은 웨이퍼를 가공하는 반도체 가공 장치에 대한 상태를 진단할 수 있는 반도체 가공 장치를 진단하는 진단 시스템 및 그것의 제어 방법에 관한 것이다. 상기 진단 시스템은 플라즈마를 이용하여 웨이퍼를 가공하는 반도체 가공 장치에 연결되어 센서 정보를 생성하는 하나 또는 그 이상의 센서들로부터 상기 센서 정보를 수신하는 통신부 및 상기 센서 정보를 이용하여 반도체 가공 공정을 진단하는 진단 정보를 생성하는 제어부를 포함한다.

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